科技的不斷研發(fā)，讓行業(yè)內(nèi)的制造工藝水平也在不斷完善。相比過去的疑難雜癥，隨著時間的遷移，已經(jīng)慢慢得到解決。同時，越來越多的產(chǎn)品隨著人們需求的增多，在科技進(jìn)步的基礎(chǔ)上研發(fā)誕生。而今天我們所要講的就是離子鍍膜機(jī)。

   離子鍍膜機(jī)的原理其實(shí)就是在真空室內(nèi)利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者有機(jī)結(jié)合起來，不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離子鍍原理，起工作過程是：先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高壓電源，在蒸發(fā)源與基片之間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區(qū)?；姌O接上5KV直流負(fù)高壓，從而形成輝光放電陰極。輝光放電區(qū)產(chǎn)生的惰性氣體離子進(jìn)入陰極暗區(qū)被電場加速并轟擊基片表面，對其進(jìn)行清洗。然后進(jìn)入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子進(jìn)入等離子區(qū)，與惰性氣體離子及電子發(fā)生碰撞，少部分產(chǎn)生離化。離化后的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面，致使膜層質(zhì)量得到改善。

多弧離子真空鍍膜機(jī)的電弧蒸發(fā)

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)

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